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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制做厂是在华北中北部,其主要生育89英寸半导晶圆,平均废水处理尾气排放物量约800吨。原因生育的时候中食用大批量氢佛酸确定晶圆蚀刻,引致废水处理中氟化物含量高达hg200-300mg/L,远超国尾气排放物标准规范(10mg/L下面的)。 废水处理方法部分及原因 废气首要发源几个教学环节: 晶圆蚀刻工作 :含高含量氟化物(HF)、氰化钠及多量巨资属 生物机诫打磨抛光(CMP)生产废水 :含納米级硅颗粒肥料、生物碳络合剂 机难以清理焦化废水 :含异丙醇、高锰酸盐指数等有机的物 办理生产技术具体流程 使用"生物滤渣+水泥混凝土滤渣+厚度过滤整体"3级整理整体: 特一级操作 :加药系统氯化钙和氢防氧化钙,导致氟化钙沉淀自己,氟化物取除率达85% 中级治理 :生成PAC(配位碱式氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),清除电解质溶液态环保问题物 两级治理 :经过多材质过虑器和亲水性炭离心分离,出水量氟化物溶液浓度比较稳定在8mg/L下类 要点环保设备收录:pH自动的调整系統、斜管析出池、板框设备(废水出现脱水)。 最后目的 大型项目启动四年监测方案资料现示: 氟化物大概氨水浓度:7.2mg/L(高于中国基准) COD除掉率:92% 污泥干化含水量率:≤65% 年回收处理氟化钙副货品约150吨,实现目标资源量化利用

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